China face un pas semnificativ în încercarea de a-și crește autonomia în industria semiconductorilor, după ce o companie susținută de stat a început producția în masă a primelor echipamente de litografie DUV cu imersiune. Livrările către marii producători chinezi de cipuri sunt planificate până la finalul anului, într-un context în care accesul la cele mai avansate utilaje occidentale este deja restricționat de măsuri externe.
Primele echipamente de litografie DUV cu imersiune urmează să fie livrate în China
Conform informațiilor apărute în presa internațională, primele sisteme vor fi distribuite către fabricile SMIC, Hua Hong Semiconductor și ChangXin Memory Technologies (CXMT). Livrările se așteaptă să aibă loc până la sfârșitul acestui an.
Planurile de producție sunt modeste în comparație cu liderii globali ai industriei. În 2026, se estimează fabricarea a aproximativ cinci echipamente, numărul urmând să crească la circa 20 în 2027.
Compania care produce aceste echipamente nu a fost identificată oficial. Sursele indică că proiectul reunește ingineri din mai multe firme chineze specializate în litografie, inclusiv startup-ul Shanghai Yuliangsheng Technology, care testează de anul trecut un sistem DUV într-o fabrică operată de SMIC.
Majoritatea componentelor folosite sunt produse în China, însă anumite piese esențiale sunt importate din Japonia. Întârzierile în livrare au redus volumele de producție în acest an.
Importanța magneților litografiei DUV în fabricarea semiconductorilor
Litografia este o etapă complexă în procesul de fabricație a cipurilor, fiind responsabilă pentru proiectarea modelelor extrem de fine pe plăcile de siliciu.
Liderul actual al pieței este compania olandeză ASML, care produce echipamentele EUV necesare pentru cele mai avansate procesoare. Sistemele DUV cu imersiune, mai puțin performante decât cele EUV, rămân esențiale pentru fabricarea unei game largi de cipuri.
Aceste echipamente pot produce cipuri în clase tehnologice de aproximativ 28 de nanometri și, prin procese suplimentare, pot ajunge și la 7 nanometri. Totuși, utilizarea acestor tehnologii implică costuri mai mari și procese mai complicate.
Deținerea unor echipamente DUV proprii reprezintă o strategie pentru China, chiar dacă acestea nu rivalizează încă cu cele mai moderne soluții occidentale.
Restricțiile externe au accelerat investițiile în industria internă
Producția locală de echipamente de litografie este o reacție la restricțiile impuse de Statele Unite și aliații săi. În Congresul SUA se află în dezbatere un proiect legislativ care interzice atât vânzarea de noi echipamente ASML către companii precum SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei și YMTC, cât și oferirea de servicii tehnice și mentenanță pentru echipamentele deja existente.
Pe de altă parte, ASML estimează că va livra circa 130 de sisteme DUV cu imersiune în 2026, un nivel similar cu cel din 2025. Cu toate acestea, compania intenționează să își mărească semnificativ capacitatea de producție în următorii ani, dar ponderea vânzărilor către China a început deja să scadă din cauza restricțiilor comerciale mai stricte.
Procesele de dezvoltare și provocările până la independența tehnologică
Chiar dacă producția a început, experții subliniază că echipamentele chinezești nu sunt încă la nivelul celor produse de ASML. Integrarea în liniile de fabricație și certificarea pentru utilizare industrială pot dura luni sau ani.
Performanțele și fiabilitatea acestor echipamente sunt încă inferioare celor occidentale. În domeniul litografiei EUV, tehnologia pentru cele mai avansate cipuri este încă în faze de prototip și testare în China. Se estimează că va mai dura câțiva ani până când aceste sisteme vor putea fi utilizate eficient în producția comercială.
Astfel, drumul către independența completă în tehnologia semiconductorilor rămâne dificil și presupune multiple provocări tehnologice și de fiabilitate.
